D´TOX CLAY TREATMENT
Pleťová maska | 60g
K nákupu získate od nás darček - kozmetický aplikátor na nanášanie masky
Podrobný popis
D´TOX Clay Treatment s vitamínom C, koloidným ovsom, ibištekom a prebiotikami
- čistí pleť do hĺbky a uvoľňuje zanesené póry
- rozjasňuje pleť, pôsobí antioxidačne
- podporuje syntézu kolagénu
Ílová maska zanechá pokožku rozjasnenú a vyčistenú do hĺbky. Vzácny marocký lávový íl (rhassoul) jemne odstraňuje nečistoty a čistí póry, zatiaľ čo vitamín C a ibištek rozjasňujú pokožku a vyrovnávajú nerovnomerný tón pleti. Ibištek je taktiež známy, ako "rastlinná alternatíva botoxu" - zlepšuje elasticitu pleti a podporuje syntézu kolagénu. Ovsený prášok a alantoín pomáhajú upokojiť pokožku. Synergicky pôsobiaca kombinácia škorice, muškátového orieška, klinčekov, kardamómu a kurkumy má antibakteriálne vlastnosti, pleť čistí od nedokonalostí a urýchľuje hojenie po zápale. Obsahuje prospešné prebiotiká pre kožný mikrobióm. Maska je vhodná pre všetky typy pleti, najmä pre problematickú pleť so sklonom k nečistotám a upchatým pórom.
INGREDIENCIE:
moroccan lava clay (marocký íl), kaolin, ascorbic acid (vitamín C), maltodextrin, zea mays starch (kukuričný škrob), xanthan gum (xantánová guma), lecithin, hibiscus sabdariffa flower powder (ibištek), avena sativa kernel flour (koloidný ovos), inulin, microcrystalline cellulose (mikrokryštalická celulóza), calcium carbonate, arginine, cinnamomum zeylanicum bark powder (škorica), myristica fragrans fruit powder (muškátový oriešok), elettaria cardamomum seed powder (kardamóm), allantoin, eugenia caryophyllus flower bud powder (klinčeky), curcuma longa root powder (kurkuma)
Ako použiť pleťovú masku
Zmiešajte jednu časť prášku s dvomi časťami vody do hladkého krému bez hrudiek. Naneste na pleť a nechajte pôsobiť. Po 10 minútach umyte teplou vodou. Následne použite hydratačný krém. Používajte 1-2x týždenne.
Poznámka: Maska by nemala zaschnúť úplne. Ak by sa tak stalo, zľahka pleť navlhčite. Úplné zaschnutie môže mať za následok dehydrovanú a podráždenú pokožku.
Buďte prvý, kto napíše príspevok k tejto položke.